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UV干式光清洗特點

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文章出處:萬志宇責任編輯:HE 發表時間:2016-09-23 15:00:00

UV干式光清洗特點:

1、大氣中處理,簡單方便,環保無二次污染,無需加熱、藥液等處理。

2、清潔度極高,單分子層以下,可以得到從來處理方法難以想象的清潔度、接著性

3、國內獨有的超高出力短波長紫外線光源,僅需短時間(秒單位)照射,發揮強大的處理能力,從實驗室進入實用。

4、不對材料的表面產生損傷。

5、相對于濕式清洗或等離子清洗成本低。

6、沒有液體表面張力的影響,超微細部的清洗容易。

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